Tft-lcd 基板清洗设备

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整套设备由上下料装置，传送装置，干洗部分紫外光化学清洗舱（UV单元）和湿洗部分（药液喷淋舱，刷洗，高压喷淋，超声波清洗，风刀）综合组成,清洗流程设计为1药液喷淋(弱碱，附加DIW自清洗功能)-2药液刷洗（弱碱或者中性）-3超声波-4二流体喷淋（高压）-5兆声波（频率率百万赫兹以上）-6超纯水喷淋清洗-7风刀干燥-8紫外单元。设备每个部分能够单独控制；1单元前以及2，3单元间必须配备风刀液切单元，防止废气泄露以及单元间相互污染