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TEM用纯Si薄膜窗 纯硅薄膜窗特点 纳米级厚度：薄膜厚度为5-15nm，比目前无定形碳薄膜窗口还薄，为高倍成像减少了背景干扰；
清洗：采用等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量；
均匀性：减少了不同区域的不均匀性；
稳定性：高电子束电流和退火温度下具有很好的稳定性(600℃ for non-porous, >1000℃ for nanoporous)；
减少污染：彩色污染仅为C膜的一半；
纳米孔：为纳米尺寸材料提供稳定的成像，无背景干扰；
Si成分：溅镀沉积、纯的Si；
最小的背景信号：可对含Ni或C样品进行元素分析；
纯硅薄膜窗规格
单窗口系列
窗口类型 薄膜厚度 窗口尺寸 框架尺寸 框架厚度
5nm 25x25µm Φ3mm 100µm
30nm 500x500µm 纳米孔10-60nm Φ3mm 100µm 多窗口系列
窗口类型 薄膜厚度 窗口尺寸 框架尺寸 框架厚度
5nm 2x1阵列，50X1500µm Φ3mm 100µm
9nm
/15nm 2x1阵列，100X1500µm Φ3mm 100µm
5nm 2x1阵列，100X100µm Φ3mm 200µm
9nm
/15nm 2x1阵列，100X1500µm Φ3mm 200µm
5nm 3x3阵列，8个窗口50X50µm，
1个窗口50X100µm Φ3mm 100µm
5nm
/9nm 3x3阵列，8个窗口100X100µm，
1个窗口100X350µm Φ3mm 100µm
9nm 3x3阵列，8个窗口100X100µm，
1个窗口100X350µm Φ3mm 200µm
15nm 3x3阵列，8个窗口100X100µm，
1个窗口100X350µm Φ3mm 100µm
30nm 3x3阵列，8个窗口100X100µm，1个窗口100X350µm；纳米孔10-60nm Φ3mm 100µm
15nm 3x3阵列，窗口100X100µm Φ3mm 200µm
