品牌:KRI
电压:40-300V VDC
离子源直径:~ 2 cm
电源控制:eHx-3005A
起订:1台
供应:1000台
发货:60天内
KRI 霍尔离子源 eH 200
上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH200 是霍尔离子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本设计离子源. 霍尔离子源 eH200 适用于小型真空腔内, 例如研发分析, 薄膜沉积和离子清洗. 霍尔离子源 eH200 操作简单是理想的生产工具.
KRI 霍尔离子源 eH 200 技术参数:
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             型号  | 
            
             eH 200  | 
        
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             供电  | 
            
             DC magnetic confinement  | 
        
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             - 电压  | 
            
             40-300V VDC  | 
        
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             - 离子源直径  | 
            
             ~ 2 cm  | 
        
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             - 阳极结构  | 
            
             模块化  | 
        
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             电源控制  | 
            
             eHx-3005A  | 
        
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             配置  | 
            
             -  | 
        
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             - 阴极中和器  | 
            
             Filament or Hollow Cathode  | 
        
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             - 离子束发散角度  | 
            
             > 45° (hwhm)  | 
        
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             - 阳极  | 
            
             标准或 Grooved  | 
        
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             - 水冷  | 
            
             无  | 
        
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             - 底座  | 
            
             移动或快接法兰  | 
        
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             - 高度  | 
            
             2.0'  | 
        
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             - 直径  | 
            
             2.5'  | 
        
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             -加工材料  | 
            
             金属  | 
        
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             -工艺气体  | 
            
             Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors  | 
        
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             - 安装距离  | 
            
             6-24”  | 
        
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             - 自动控制  | 
            
             控制4种气体  | 
        
* 可选: 可调角度的支架; Filamentless; Sidewinder
KRI 霍尔离子源 eH 200 应用领域:
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
直接沉积 DD
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